Carburo di silicio del prodotto di alto livello

TMAH può aumentare significativamente il potenziale zeta dicarburo di siliciopolvere e riduci la viscosità della sospensione, ottimizzando così significativamente le proprietà reologiche della sospensione. A pH circa 1 0, il potenziale Zeta è aumentato di 11,7 mV e 21 mV, rispettivamente, dopo aver aggiunto 0. 3% e 0,6% TMAH. Il disperdente eccessivo aumenterà la concentrazione di ioni nella sospensione e porterà a una diminuzione dello spessore del doppio strato elettrico, peggiorando così la reologia della sospensione.

1.Un metodo per preparare film sottili modificati in silicio su sinteriti reattivicarburo di silicioI materiali (RB-SIC) utilizzando una fonte di ioni di tipo Hall per aiutare l'evaporazione del fascio di elettroni e è stato studiato l'effetto di lucidatura dei film modificati a diversi tassi di deposizione. Le misurazioni di scattering e riflessione superficiale sono state eseguite sui campioni. Le microfotografie dei campioni mostrano che la struttura dello strato di film di silicio tende ad essere sciolte nella condizione di aumentare il tasso di deposizione. Dopo aver lucidato finemente la sinterizzazione reattiva dei campioni di carburo di silicio rivestiti con film modificati al silicio, il coefficiente di dispersione di superficie diminuisce all'1,46%e la riflettività è vicina a quella del vetro-ceramico ben lucidato. Il test di shock della temperatura e il test di trazione superficiale mostrano che il film di silicio non ha crack e cadute, è di natura stabile e ha una buona combinazione con substrato in carburo di silicio.

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