Obiettivo significativo del materiale Tantalio

Obiettivi di tantaliosono noti per la loro eccellente resistenza alla corrosione, l'elevato punto di fusione e la biocompatibilità, e sono un elemento metallico raro. Questi processi includono la deposizione fisica da vapore (PVD) e la deposizione chimica da vapore (CVD), in cui i target di tantalio vengono rilasciati rilasciando atomi o molecole di tantalio, propagandosi in forma gassosa in un ambiente sotto vuoto e infine depositandosi su un substrato target per formare una pellicola uniforme e precisa.

1.Le proprietà fisiche e chimiche conferiscono vantaggi unici nella formazione di pellicole di alta qualità, come una migliore resistenza all'abrasione, alla corrosione, alla conduttività elettrica o alle proprietà ottiche. L'elevata purezza delbersaglio tantalio(spesso oltre il 99,9%, a volte anche il 99,999%) garantisce che non vengano introdotte impurità indesiderate durante la deposizione del film, mentre la sua omogeneità e le caratteristiche strutturali ad alta densità garantiscono l'omogeneità della distribuzione del materiale e la stabilità durante la deposizione. I target in tantalio sono utilizzati in un'ampia gamma di applicazioni high-tech, dall'elettronica e dalla produzione di semiconduttori ai rivestimenti anticorrosione e ai dispositivi medici. Nell'industria elettronica e nella tecnologia spaziale, i target in tantalio sono ampiamente utilizzati per le loro eccellenti proprietà, in particolare nel campo dei condensatori, dove sono utilizzati nella quantità maggiore, rappresentando più di 1/3. Inoltre, i target in tantalio sono utilizzati anche nel campo dei materiali resistenti al calore e ad alta resistenza come motori aerospaziali e militari, razzi e missili, dimostrando il suo importante ruolo nei campi ad alta precisione.

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